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簡(jian)要(yao)描(miao)述(shu):智(zhi)能(neng)次(ci)氯酸鈉(na)發(fa)生器供應次氯酸鈉(na)發(fa)生器采用(yong)管(guan)式設計及滾花(hua)塗層,配備(bei)反滲透過濾系統,電解(jie)槽無(wu)需(xu)倒(dao)極(ji)沖(chong)洗,槽內不會結垢(gou),延長(chang)電(dian)解(jie)槽的使(shi)用(yong)壽命(ming)。
產(chan)品(pin)型(xing)號(hao):
廠商性質(zhi):生產(chan)廠家(jia)
更(geng)新時(shi)間:2025-04-15
訪(fang) 問 量(liang):4033智能次氯酸鈉(na)發(fa)生器供應該設備(bei)是(shi)通過現(xian)場(chang)制備(bei)次氯酸鈉(na),所(suo)以較(jiao)為(wei)穩(wen)定(ding)、易(yi)於(yu)添(tian)加。由(you)於(yu)在處(chu)理過的水(shui)中停留的(de)時(shi)間長(chang)、混(hun)合效果(guo)好,因此其(qi)損失(shi)到空(kong)氣(qi)中的氯少。
其(qi)實(shi),次氯酸鈉(na)發(fa)生器就(jiu)是(shi)款(kuan)現(xian)場(chang)制備(bei)次氯酸鈉(na)發(fa)生器的(de)設備(bei),其工藝(yi)主(zhu)要(yao)利用(yong)水(shui)、電、食品(pin)鹽(yan)通過電解(jie)的方式現(xian)場(chang)制備(bei)低(di)濃(nong)度(du)次氯酸鈉(na)溶(rong)液。次氯酸鈉(na)現(xian)場(chang)制備(bei)系統由(you)軟(ruan)水(shui)制備(bei)、溶鹽(yan)池、次(ci)氯酸鈉(na)發(fa)生器及(ji)配(pei)套電源、次氯酸鈉(na)儲(chu)存(cun)及(ji)安(an)全(quan)排氫(qing)聯動(dong)系統、次氯酸鈉(na)投加系統以及(ji)控(kong)制系統組成(cheng)。制備(bei)完成(cheng)的(de)次(ci)氯酸鈉(na)溶(rong)液和少(shao)量(liang)氫(qing)氣(qi)進入(ru)脫氫(qing)系(xi)統,采用(yong)離心(xin)風(feng)機(ji)鼓入(ru)新風(feng)完成(cheng)低(di)濃(nong)度(du)排氫(qing), 次(ci)氯酸鈉(na)溶(rong)液進入(ru)存(cun)儲(chu)桶(tong)等待(dai)投加的這(zhe)麽個(ge)過程。
智(zhi)能次(ci)氯酸鈉(na)發(fa)生器供應特(te)點(dian)
1、殺(sha)菌廣(guang)譜,作用(yong)時(shi)間短(duan);次(ci)氯酸占(zhan)有(you)效氯比例(li)高(gao)達98.5%以上(shang),次(ci)氯酸濃(nong)度(du)(ppm值)50ppm-500ppm連續可調(tiao),用(yong)戶(hu)使(shi)用(yong)非(fei)常(chang)方便(bian);
2、電解(jie)槽采用(yong)無(wu)隔(ge)膜結構,電極(ji)采用(yong)管(guan)式鈦(tai)基內鍍釕銥(電解(jie)槽金屬陽(yang)極(ji)塗(tu)層HG/T 2471-2011);
3、惰性(xing)劑(ji)方案可使(shi)ph值非(fei)常(chang)穩(wen)定(ding),生產(chan)過程中無(wu)堿(jian)水排出(chu)。
4、電解(jie)電源采用(yong)恒(heng)流(liu)源,電(dian)解(jie)電流(liu)誤差(cha)在0.1A以內,電解(jie)效率高(gao),殘余氯離子遠低(di)於(yu)國(guo)標(biao)標(biao)準(zhun)值;
5、控制系統采用(yong)自(zi)主研發的(de)微(wei)電(dian)腦系(xi)統,人機(ji)觸(chu)摸屏壹(yi)鍵(jian)開(kai)關(guan),全(quan)自(zi)動(dong)運行,可連續工作。
6、選用(yong)優(you)質(zhi)配(pei)件,系(xi)統運行可靠(kao),能(neng)耗低(di),產(chan)水量(liang)高,制水成(cheng)本只(zhi)需(xu)5分錢(qian),多種濃(nong)度(du):滿足(zu)不同消毒(du)需(xu)求。
7、采用(yong)管(guan)式設計及滾花(hua)塗層,配備(bei)反滲透過濾系統,電解(jie)槽無(wu)需(xu)倒(dao)極(ji)沖(chong)洗,槽內不會結垢(gou),延長(chang)電(dian)解(jie)槽的使(shi)用(yong)壽命(ming)。
8、產(chan)品(pin)具備(bei)完善(shan)的(de)第三(san)方檢測(ce)報告,完善(shan)的(de)消(xiao)毒設備(bei)備(bei)案手(shou)續(xu);
9、整(zheng)機(ji)質(zhi)保(bao)壹(yi)年(nian)、設備(bei)可持(chi)續(xu)穩定(ding)運行。
微酸(suan)性電(dian)解(jie)水生成(cheng)器原(yuan)理
微(wei)酸(suan)性電解(jie)水/次氯酸水(shui)生成(cheng)器是(shi)在無(wu)隔(ge)膜的電解(jie)槽中,電解(jie)氯化鈉(na)水(shui)溶液,生成(cheng)的(de)以次(ci)氯酸為(wei)主(zhu)要(yao)殺(sha)菌成(cheng)分(fen)、無(wu)刺(ci)激性氣(qi)味(wei)的酸性(xing)水(shui)溶(rong)液(pH<6.5)。
微(wei)酸性(xing)電(dian)解(jie)水原(yuan)理:將(jiang)精密(mi)過濾水加入(ru)含(han)精制鹽,通(tong)入(ru)電(dian)解(jie)槽,在槽(cao)內參與(yu)電(dian)化學(xue)反應,溶液(ye)中出(chu)現(xian)富(fu)集微小(xiao)氣泡;經電(dian)解(jie)出(chu)的水(shui)溶液(ye),含有次氯酸分(fen)子(HClO)和(he)離子(ClO-)、短(duan)時(shi)間內含有微量(liang)的羥(qiang)基自(zi)由(you)基(-OH)、臭氧(O3)、過氧化(hua)氫(qing)(H2O2)等“混合(he)強(qiang)氧化(hua)劑(ji)"(也(ye)稱(cheng)“新生態氧")。
次(ci)氯酸消(xiao)殺(sha)原(yuan)理
次(ci)氯酸根(gen)離子(ClO-)帶負(fu)電荷(he),與(yu)細(xi)胞(bao)膜表(biao)面的(de)負(fu)電荷(he)排斥(chi)。但(dan)次氯酸分(fen)子(HClO)不(bu)帶電荷,可以穿透細(xi)胞(bao)膜,與(yu)DNA和(he)線(xian)粒體(ti)發(fa)生氧化(hua)反應。同等的有(you)效(xiao)氯情況下(xia),次氯酸分(fen)子(HClO)殺(sha)菌能力約(yue)為(wei)次(ci)氯酸根(gen)離子(ClO-)的(de)80~150倍(bei)。

上壹(yi)篇(pian):PP圓(yuan)罐式壹(yi)體(ti)化(hua)汙水處理設備(bei)
下(xia)壹(yi)篇(pian):SK-60單(dan)桶(tong)緩(huan)釋(shi)消(xiao)毒器
產(chan)品(pin)分(fen)類
Product Category相(xiang)關(guan)文(wen)章(zhang)
掃(sao)壹(yi)掃(sao),關(guan)註(zhu)微(wei)信(xin)